集成电路纳米硅抛光液
主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
纳米级抛光液应用领域:
1.金属类材料,如不锈钢,铝件,锌合金
2.LED蓝宝石衬底,表镜片,晶体,宝石
3.光学镜片,光学玻璃,石英
4.磁头,硬盘
5.光纤以及光伏企业
技术参数:
平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例
50 40.0 40 10.2 1.30 1. 15±0.05 <1:1~20
80 72.0 40 10.2 1.30 1. 15±0.05 <1:1~20
100 100 40-41 10.5-11 1.5 1.20±0.05
<1:1~20
去除率:2-5um/小时
包装规格:20KG/桶 、25KG/桶
储存方式:存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射;
保质期限:碱性抛光液保质期为一年。